濕法加工中掩模對準晶體方向的確定
在濕法體微機械加工中,蝕刻特性取決于取向。Si{100}和Si{110}晶片上任何幾何形狀的掩模開口的延長蝕刻導致由最慢蝕刻平面限定的結構。為了制造高尺寸精度的微結構,對準沿著晶體方向的掩模邊緣包括這些最慢的蝕刻平面。因此,掩模邊緣的精確對準在微/納米制造中很重要。因此,確定精確的晶體方向至關重要,事實上,這是
中國高端濕法制程設備及工藝解決方案供應商!
Copyright ? 蘇州儷峯精密自動化有限公司 版權所有 蘇ICP備18048756號-1 技術支持:佳佳通網絡